臺積電3nm制程工藝或將量產 相比5nm提高60%
據海外媒體techpowerup報道，臺積m提臺積電正在積極推進3nm工藝制程的程工產相量產計劃，預計將在2022下半年至2023年上半年之間實現3nm工藝制程的藝或量產。
據了解，將量臺積電3nm工藝制程擁有N3、臺積m提N3B和N3E等多個節點。程工產相據悉，藝或N3E在N3基礎上減少了EUV光罩層數，將量從25層減少到21層，臺積m提邏輯密度低了8%，程工產相不過仍比5nm的藝或N5制程節點要高出60%，并且具有更好的將量性能、功耗和產量。臺積m提作為3nm簡化版的程工產相N3E節點，量產節點可能提前到2023年上半年。藝或
據了解，將量臺積電3nm工藝制程擁有N3、臺積m提N3B和N3E等多個節點。程工產相據悉，藝或N3E在N3基礎上減少了EUV光罩層數，將量從25層減少到21層，臺積m提邏輯密度低了8%，程工產相不過仍比5nm的藝或N5制程節點要高出60%，并且具有更好的將量性能、功耗和產量。臺積m提作為3nm簡化版的程工產相N3E節點，量產節點可能提前到2023年上半年。藝或
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