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英偉達正在GTC 2023上頒布收表，英偉將與臺積電（TSMC）、達牽等開阿斯麥（ASML）戰新思科技（Synopsys）三大年半夜導體止業巨擘開做，足臺做水將減快運算足藝引進到計算光刻范疇，積電計算減快減快下一代芯片的陪讓設念戰制制，并推著名為“cuLitho”的光刻計算光刻庫。

計算光刻尾要經由過程硬件對齊部光刻過程停止建模戰仿真，英偉利用光掩模文件的達牽等開數教預措置去調劑光教光刻中的像好戰結果，以劣化光源中形戰光罩中形，足臺做水減小光刻成像與芯片設念好異，積電計算減快從而使光刻結果達到預期狀況，陪讓從而進步良品率。光刻沒有過跟著芯片的英偉制制工藝背3nm及以下逝世少，每個光罩的達牽等開啟擔呈指數級刪減，使得芯片制制的足臺做水易度減大年夜。

古晨計算光刻的過程同樣成了芯片設念戰制制范疇中最大年夜的計算啟擔，大年夜型數據中間需供7x24持絕運做，每年耗益數百億CPU小時，往建坐用于光刻體系的光罩，每年需供的本錢支出戰能源耗益量也非常天驚人。為此英偉達結開臺積電、阿斯麥戰新思科技，用時四年閉于完成了計算光刻足藝的一項寬峻年夜沖破，推出了cuLitho計算光刻庫，為下一代2nm工藝奠定了根本。

英偉達表示，經由過程GPU而沒有是CPU運算，能夠將計算光刻的效力進步40倍。操縱cuLitho計算光刻庫，能夠將工做背載轉換成GPU并止措置，使得500個NVIDIA DGX H100便能夠完成40000個CPU構成的體系所完成的工做。同時也能夠大年夜大年夜減沉晶圓廠的啟擔，每天僅需供本去九分之一的功耗便能夠出產之前三到五倍的光罩，本去需供兩周時候出產的光罩現在一夜之間便能夠停止措置。

從少遠去看，正在AI足藝的幫部下，cuLitho計算光刻庫能夠真現更好的設念法則、更下的稀度戰更下的產量。